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          CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
          真空氣相沉積材料

                 CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名:派瑞林、聚對二甲苯、英文名:Parylene),它可在真空下氣相沉積,活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部,周圍形成無針孔,並厚度均勻的透明絕緣塗層,給元件提供了一個完整的優質防護塗層,抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害,因為所使用的不是液體,所以塗敷過程中不會聚集,橋接式形成彎月面。

                Parylene派瑞林高分子材料根據分子結構可分為: N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據客戶技術要求與產品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料,並給於專業的技術指導。

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          派瑞林牌號

          成膜特性

          CAT

          N

          CAT

          C

          CAT

          D

          CAT

          F(VT4)

          CAT

          AF4(HT)

          密度(gm/cc)

          1.1

          1.3

          1.41

          1.55

          1.5

          介電常數(1Mhz)

          2.6

          2.9

          2.8

          2.3

          2.2

          介電強度(V/Mil)

          7000

          5600

          5500

          5000

          7000

          最低持續工作溫度(空氣中)

          -60°C

          -60°C

          -60°C

          -60°C

          -60°C

          最高持續工作溫度(空氣中)

          60°C

          80°C

          110°C

          200°C

          300°C

          摩擦係數-動態

          0.25

          0.29

          0.38

          0.39

          0.16

          線性膨脹係數(ppm at 25°C)

          69

          35

          38

          45

          34

          吸水性(24H後)

          <% 0.1

          <% 0.1

          <% 0.1

          <% 0.1

          <% 0.1

          水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

          0.6

          0.08-0.1

          0.1

          0.25-0.32

          0.2

          氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

          16

          3

          12.0-13.5

          16.8

          25.3

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